日本medas陶瓷和半導體氣體處理裝置KY-05

適用于處理惡臭物質、有機溶劑、陶瓷和半導體氣體，環(huán)境凈化，無二次污染。

氣體處理有機化合物（易燃物質）的一種方法是使用催化劑的氧化分解（催化氧化）方法。 當工藝氣體在空氣中燃燒時，它可以全部氧化而不會引起火焰。
當直接處理的氣體在火焰中燃燒時，處理氣體將其保持在600°C~800°C，除非加熱0.3秒~0.5秒或更長時間，否則不會全部氧化，但在催化劑的情況下，溫度也低至200°C~350°C，因此可以應用電加熱器，與活性炭吸附和化學吸收法（洗滌器）相比，處理效率也非常高。 即使是在含有有害有機金屬化合物的半禪體生產過程中排放的氣體，如果采用本公司的半致密廢氣處理系統(tǒng)，也可以在催化劑表面生成常規(guī)方法無法處理的氣體作為化合物，排出而不排放出系統(tǒng)。

產品特點

氣體處理有機化合物（易燃物質）的一種方法是使用催化劑的氧化分解（催化氧化）方法。 當工藝氣體在空氣中燃燒時，它可以全部氧化而不會引起火焰。
當直接處理的氣體在火焰中燃燒時，處理氣體將其保持在600°C~800°C，除非加熱0.3秒~0.5秒或更長時間，否則不會全部氧化，但在催化劑的情況下，溫度也低至200°C~350°C，因此可以應用電加熱器，與活性炭吸附和化學吸收法（洗滌器）相比，處理效率也非常高。 即使是在含有有害有機金屬化合物的半禪體生產過程中排放的氣體，如果采用本公司的半致密廢氣處理系統(tǒng)，也可以在催化劑表面生成常規(guī)方法無法處理的氣體作為化合物，排出而不排放出系統(tǒng)。

氣體處理有機化合物（易燃物質）的一種方法是使用催化劑的氧化分解（催化氧化）方法。 當工藝氣體在空氣中燃燒時，它可以全部氧化而不會引起火焰。
當直接處理的氣體在火焰中燃燒時，處理氣體將其保持在600°C~800°C，除非加熱0.3秒~0.5秒或更長時間，否則不會全部氧化，但在催化劑的情況下，溫度也低至200°C~350°C，因此可以應用電加熱器，與活性炭吸附和化學吸收法（洗滌器）相比，處理效率也非常高。 即使是在含有有害有機金屬化合物的半禪體生產過程中排放的氣體，如果采用本公司的半致密廢氣處理系統(tǒng)，也可以在催化劑表面生成常規(guī)方法無法處理的氣體作為化合物，排出而不排放出系統(tǒng)。

日本medas陶瓷和半導體氣體處理裝置KY-05

產品用途

氣體處理有機化合物（易燃物質）的一種方法是使用催化劑的氧化分解（催化氧化）方法。 當工藝氣體在空氣中燃燒時，它可以全部氧化而不會引起火焰。
當直接處理的氣體在火焰中燃燒時，處理氣體將其保持在600°C~800°C，除非加熱0.3秒~0.5秒或更長時間，否則不會全部氧化，但在催化劑的情況下，溫度也低至200°C~350°C，因此可以應用電加熱器，與活性炭吸附和化學吸收法（洗滌器）相比，處理效率也非常高。 即使是在含有有害有機金屬化合物的半禪體生產過程中排放的氣體，如果采用本公司的半致密廢氣處理系統(tǒng)，也可以在催化劑表面生成常規(guī)方法無法處理的氣體作為化合物，排出而不排放出系統(tǒng)。