日本sanmei納米壓印設(shè)備ImpFlex Essential

低價(jià)UV納米壓印設(shè)備ImpFlex Essential

納米壓印光刻作為下一代微細(xì)加工技術(shù)受到關(guān)注，它 比傳統(tǒng)光刻具有更高的小型化、更低的成本和更高的產(chǎn)量。
該設(shè)備是在型號 ImpFlex 基礎(chǔ)上*降低成本的低價(jià)型號。
以低廉的價(jià)格實(shí)現(xiàn)低殘膜和均勻膜厚的壓印引擎，繼承自上層。

1. 搭載ImpFlex通用的壓印引擎，殘膜少，膜厚均勻性高！
2. *降低成本，實(shí)現(xiàn)低價(jià)！
3.支持消泡氣工藝！
4.兼容各種模具！
5. 豐富的選項(xiàng)可以升級！

日本sanmei納米壓印設(shè)備ImpFlex Essential

納米壓印光刻作為下一代微細(xì)加工技術(shù)受到關(guān)注，它 比傳統(tǒng)光刻具有更高的小型化、更低的成本和更高的產(chǎn)量。
該設(shè)備是在型號 ImpFlex 基礎(chǔ)上*降低成本的低價(jià)型號。
以低廉的價(jià)格實(shí)現(xiàn)低殘膜和均勻膜厚的壓印引擎，繼承自上層。

1. 搭載ImpFlex通用的壓印引擎，殘膜少，膜厚均勻性高！
2. *降低成本，實(shí)現(xiàn)低價(jià)！
3.支持消泡氣工藝！
4.兼容各種模具！
5. 豐富的選項(xiàng)可以升級！

特征

1.實(shí)現(xiàn)高精度結(jié)構(gòu)轉(zhuǎn)移

具有*并聯(lián)機(jī)構(gòu)的“軟載物臺"實(shí)現(xiàn)了精細(xì)的轉(zhuǎn)印操作，可最大限度地減少轉(zhuǎn)印缺陷和納米級圖案形成。此外，新開發(fā)的 LED 光源可實(shí)現(xiàn)均勻的紫外線照射，并實(shí)現(xiàn)低邊緣粗糙度。